中国半导体科技获得突破，国产蚀刻机突破5nm技术！

今年，我国手机行业有了飞跃的发展，但却被国人吐槽，原因就是，虽然我国国产手机全球销量第一，但国产化和芯片技术还没有达到国际领先。现在的芯片已经达到7nm技术，想生产7nm芯片就需要高端的光刻机和蚀刻机，而高端光刻机现在一直被荷兰的一家公司垄断，但在蚀刻机上我国已经攻克5nm技术。

关于光刻机和蚀刻机的区别，简单来讲，光刻机是把芯片的设计图案印上去，然后在通过刻蚀机进行刻蚀，并且光刻机要比刻蚀机研制难度大。目前我国光刻机和蚀刻机发展属于严重的偏科，因为我国半导体行业7nm蚀刻机已经实现量产，但是在光刻机技术上，离7nm技术还相差甚远。

虽然荷兰的ASML几乎垄断了全球高端光刻机，但它的光刻机并非完全国产，荷兰研制的7nm光刻机光源是来自美国，而镜头是进口德国，技术来自英国，并且由韩国组装。

也是因为它把全球顶尖集合于一身，所以荷兰才可以垄断全球高端的光刻机市场，而由于各种原因，我国只能自己摸索通过自己的努力进行追赶。在半导体行业，我国刻蚀机已经实现商业化，早在28nm就已经和台积电合作。据报道2019年，台积电准备率先生产5nm制程的芯片，并且5nm的刻蚀机也通过了台积电的验收。